產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品定位
SL200L+型接觸角測定儀是一款專為液晶、晶圓、半導(dǎo)體、硅片及光刻膠等精密材料表面清潔度與潤濕性分析設(shè)計(jì)的設(shè)備。基于大移動平臺與模塊化設(shè)計(jì)理念，該設(shè)備支持自動進(jìn)液、動態(tài)接觸角及界面張力測試，為工業(yè)質(zhì)檢與研發(fā)提供精準(zhǔn)數(shù)據(jù)支持。

核心技術(shù)優(yōu)勢

1. 大移動平臺設(shè)計(jì)：

   • 適配大尺寸樣品（如PCB板、IPAD顯示屏、觸摸屏）的清潔度與接觸角測量。

   • 支持液晶、晶圓、半導(dǎo)體等精密材料的表面潤濕性評估。

2. 高精度光學(xué)系統(tǒng)：

   • 工業(yè)級輪廓鏡頭：成像清晰，確保液滴輪廓精準(zhǔn)識別。

   • 石英玻璃柔光光源：均勻背景照明，提升圖像對比度。

3. 智能化軟件系統(tǒng)（CAST™3.0）：

   • 動態(tài)接觸角分析：支持前進(jìn)/后退角、滾動角及時(shí)間依賴性接觸角測量。

   • 表面自由能計(jì)算：分析色散力、極性力、氫鍵力等分量，評估材料表面特性。

   • 液-氣/液-液界面張力測試：基于懸滴法（Pendant Drop）實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)測量。

4. 自動進(jìn)液系統(tǒng)：

   • 高精度液滴控制，適配微量樣品測試，減少試劑消耗。

行業(yè)痛點(diǎn)解決方案

• 表面清潔度檢測：通過接觸角與界面張力測試，快速評估液晶、晶圓、半導(dǎo)體等材料的表面污染物殘留。

• 光刻膠潤濕性分析：優(yōu)化光刻工藝中的涂布均勻性與附著力，提升制造良率。

應(yīng)用領(lǐng)域

• 液晶顯示：評估屏幕表面清潔度與涂層潤濕性。

• 半導(dǎo)體制造：晶圓、硅片表面污染物檢測與潤濕性分析。

• 光刻膠研發(fā)：優(yōu)化光刻膠涂布性能，提升工藝穩(wěn)定性。

• 觸摸屏質(zhì)檢：表面清潔度與涂層附著力評估。

技術(shù)優(yōu)勢

• 高精度控制：微米級定位精度，減少機(jī)械振動干擾。

• 模塊化設(shè)計(jì)：支持功能擴(kuò)展，適配多樣化測試需求。

• 操作友好性：向?qū)杰浖缑娼Y(jié)合一鍵操作功能，降低使用門檻。

服務(wù)支持
提供專業(yè)的技術(shù)服務(wù)與定制化方案，確保設(shè)備在研發(fā)及品質(zhì)控制中的高效應(yīng)用。

SL200L系列接觸角測定儀產(chǎn)品特點(diǎn)與優(yōu)勢

行業(yè)痛點(diǎn)解決方案

1. 頂視3D接觸角功能：

   • 用于評估液晶、晶圓、半導(dǎo)體等高精密材料表面結(jié)構(gòu)與化學(xué)多樣性對潤濕性的影響，解決傳統(tǒng)方法無法精準(zhǔn)分析微觀粗糙表面及復(fù)雜化學(xué)組成的難題。

2. 力學(xué)鉑金板表面張力測試：

   • 通過高精度力學(xué)鉑金板法檢測硅片、光刻膠表面的有機(jī)污染物殘留，解決制造過程中污染物快速篩查的行業(yè)痛點(diǎn)。

核心技術(shù)與配置

1. 高精度控制系統(tǒng)

• 交叉線性導(dǎo)軌技術(shù)：

  • 手動控制精度0.01mm，軟件控制精度0.5μm，確保晶圓、半導(dǎo)體等精密樣品的穩(wěn)定測量。

• 9維機(jī)械結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)：

  • 2XYZ+3水平調(diào)整系統(tǒng)，協(xié)調(diào)樣品臺、相機(jī)、進(jìn)樣系統(tǒng)運(yùn)作，適配大尺寸顯示屏（如IPAD、觸摸屏）測試。

• 納升級注射泵系統(tǒng)：

  • 液滴控制精度達(dá)0.02μL（可擴(kuò)展至nL級），滿足光刻膠微量涂布測試需求。

2. 專業(yè)化光學(xué)成像系統(tǒng)

• 高景深工業(yè)鏡頭（0.35-4.5X放大倍率）：

  • 清晰捕捉液晶、硅片表面的微觀液滴形態(tài)，支持曲面校正技術(shù)分析凹凸面接觸角。

• 高速攝像系統(tǒng)：

  • 德國原裝87幀/秒相機(jī)（可升級至1000幀/秒），動態(tài)記錄光刻膠潤濕過程。

• 可調(diào)LED冷光源：

  • 避免液滴揮發(fā)干擾，確保光敏材料（如光刻膠）測試穩(wěn)定性。

3. 智能化分析軟件（CAST™2.0）

• 動態(tài)接觸角分析：

  • 支持前進(jìn)/后退角、滾動角及時(shí)間依賴性接觸角測量，適配半導(dǎo)體表面污染物動態(tài)吸附研究。

• 表面自由能模型：

  • 12種算法（如Acid-base法）分析色散力、極性力，評估材料表面清潔度與涂層兼容性。

• 液-液界面張力測試：

  • 基于Young-Laplace方程擬合，支持光刻膠與顯影液的界面行為分析。

4. 擴(kuò)展功能與兼容性

• 模塊化進(jìn)樣系統(tǒng)：

  • 兼容PTFE針管、細(xì)針管，適配高粘度光刻膠及疏水材料測試。

• 標(biāo)準(zhǔn)化視頻模式：

  • 支持多品牌主機(jī)升級，數(shù)據(jù)可導(dǎo)出為Excel/BMP格式，滿足科研論文與工業(yè)報(bào)告需求。

• 抗靜電設(shè)計(jì)：

  • 離子風(fēng)技術(shù)消除晶圓、半導(dǎo)體測試中的靜電干擾，提升測值準(zhǔn)確性。

應(yīng)用場景

• 液晶顯示行業(yè)：屏幕表面清潔度與涂層潤濕性檢測。

• 半導(dǎo)體制造：晶圓/硅片污染物篩查、光刻膠涂布均勻性評估。

• 觸摸屏質(zhì)檢：表面附著力與清潔度分析。

• 光刻膠研發(fā)：優(yōu)化配方潤濕性能，提升工藝良率。

技術(shù)優(yōu)勢

• 精準(zhǔn)適配高精密材料：專為微電子行業(yè)設(shè)計(jì)，解決表面結(jié)構(gòu)復(fù)雜、污染物難檢測的痛點(diǎn)。

• 全流程自動化：一鍵完成圖像捕獲、計(jì)算與數(shù)據(jù)保存，減少人為誤差。

• 抗干擾設(shè)計(jì)：多層水平調(diào)整系統(tǒng)結(jié)合防靜電技術(shù)，確保特殊環(huán)境下的測試穩(wěn)定性。

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技術(shù)參數(shù)

以下標(biāo)注“*”的為各型號主要區(qū)別之處。

CAST^®、阿莎^®、ADSA^®、TrueDrop^®、RealDrop^®、TheDrop^®、MicroDrop^®、LMCA^®、Shsolon^®、梭倫^®為上海梭倫注冊商標(biāo)。

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